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鈦合金蝕刻是一種通過化學(xué)或物理方法在鈦合金表面選擇性去除材料的高精度工藝，廣泛應(yīng)用于航空航天、醫(yī)療器械、氫燃料電池雙極板等領(lǐng)域。以下是其核心加工流程及關(guān)鍵技術(shù)要點(diǎn)：

1. 表面預(yù)處理

鈦合金蝕刻前需對材料進(jìn)行嚴(yán)格預(yù)處理，包括化學(xué)除油、噴砂或氫氟酸（HF）清洗，徹底去除表面油污、氧化層及雜質(zhì)，以提高后續(xù)掩膜附著力與蝕刻均勻性。此步驟直接影響鈦合金蝕刻的成品質(zhì)量，若處理不充分易導(dǎo)致蝕刻不均或返工。

2. 掩膜制作

根據(jù)設(shè)計(jì)需求選擇光刻、絲印或激光制版技術(shù)，在鈦合金表面形成保護(hù)性圖案掩膜。光刻工藝可實(shí)現(xiàn)微米級精度（±0.01mm），適用于復(fù)雜圖形；絲印則更適合大面積批量生產(chǎn)。掩膜的精準(zhǔn)度是鈦合金蝕刻實(shí)現(xiàn)高分辨率的決定性因素。

3. 化學(xué)蝕刻反應(yīng)

將預(yù)處理后的鈦合金浸入氫氟酸（HF）與硝酸（HNO?）的混合蝕刻液中，通過控制溶液濃度（通常20%-40%）、溫度（30-50℃）及時(shí)間（數(shù)秒至數(shù)分鐘），定向溶解未覆蓋掩膜的鈦合金區(qū)域。此階段需實(shí)時(shí)監(jiān)控反應(yīng)速率，以避免過蝕刻或側(cè)壁粗糙問題。

4. 掩膜去除與后處理

完成蝕刻后，使用堿性溶劑或機(jī)械剝離法清除殘留掩膜，并對鈦合金蝕刻件進(jìn)行超聲清洗、鈍化（如陽極氧化）或拋光處理，以提升表面耐腐蝕性和光潔度。例如，氫燃料電池雙極板經(jīng)鈍化后可在高酸性環(huán)境中長期穩(wěn)定使用。

5. 質(zhì)量檢測與應(yīng)用適配

通過光學(xué)測量、顯微鏡檢測等手段驗(yàn)證鈦合金蝕刻的孔徑精度（最小達(dá)材料厚度的1.5倍）與形貌一致性。根據(jù)終端需求，可進(jìn)一步進(jìn)行微調(diào)或復(fù)合加工（如電鍍、焊接），滿足航空航天精密濾網(wǎng)或醫(yī)療器械元件的性能要求。
鈦合金蝕刻工藝通過精密化學(xué)溶解實(shí)現(xiàn)了復(fù)雜結(jié)構(gòu)的高效加工，兼具精度高（±0.08mm）、無毛刺等優(yōu)勢。隨著激光蝕刻等新技術(shù)的發(fā)展，鈦合金蝕刻在折疊屏手機(jī)鉸鏈、衛(wèi)星輕量化組件等領(lǐng)域的應(yīng)用持續(xù)拓展，推動高端制造業(yè)向更精細(xì)、環(huán)保方向升級。